第二百四十四章 制裁？那就搞X光刻机！ (第1/2页)
　　
　　【fbi突然出动，抓住了潜伏其内十年的卧底。】
　　
　　【fbi抓住一名卧底，疑似华国人？】
　　
　　【近日fbi抓住一名卧底，在庭审前日晚畏罪自杀】
　　
　　【卧底自杀？还是另有原因！】
　　
　　……
　　
　　一条条相关的新闻，开始争抢起了各种头条。
　　
　　这样的新闻，不得不引起人们的注意，卧底？
　　
　　还有卧底畏罪自杀？
　　
　　对于这样的消息，每个看到的人都感到震惊。
　　
　　华国国内，在网络上讨论的人也很多，都不知道这个卧底是否真的是他们的人。
　　
　　毕竟这些都只是从国外传出的消息，没有人知道详情。
　　
　　而相比较这个政治上的事情，对于半导体界人来说，却更加关注另外一条消息。
　　
　　国外的制裁技术又加上了几条，一条，准激光发射器。
　　
　　这个东西，是光刻机光源中十分必要的一个部件。
　　
　　其主要就是利用二氧化碳激光器发射出极高能的激光，输出超过30kw平均功率的激光束，脉冲峰值最高可达几兆瓦，然后如此高能的激光，击打在不断从上方滴下的锡珠上，然后使其发射出波长为13.5nm的极紫外光。
　　
　　而想要在二氧化碳激光器上实现如此高的功率，普通的技术完全行不通，而华国当前的二氧化碳激光器在功率上并不能达到这种要求，而需要知道的是，这个功率，最终影响的就是euv光源的实际功率。
　　
　　如果euv光源没有足够大的功率，对他们的影响，十分之大。
　　
　　此外，还有其他几种euv光源中较为重要的传感器也遭到了制裁。
　　
　　这样一来，他们再想要研发光刻机，就必须先在这些方面实现突破，否则光源搞不出来，全部都白搭。
　　
　　一时之间，华国半导体界，又掀起了一片唱衰的声音。
　　
　　要是继续一个一个地搞下去，他们得花多少时间？
　　
　　到时候国外说不定早就找到了能够突破现有光刻机的技术了。
　　
　　而除了这些和光刻机技术有关的东西之外，国外又在原材料之一的光掩膜版上面进行了制裁，光掩膜版是光刻流程中同样十分重要的东西，只有通过掩膜版，极紫外光才能实现直接光刻。
　　
　　而现在主流掩膜版中，都是以石英作为材料的，而这次主要制裁项目，就是这种石英材料，而这种石英材料的生产工艺难度十分高，国内一直都需要进口国外的。
　　
　　而现在他们买不了石英材料了，就等于说国内掩膜版厂商，全部都直接废了。
　　
　　这几招下来，国内半导体产业链便再一次遭到了重创。
　　
　　……
　　
　　“妈的，那帮洋鬼子，肯定是看我们又搞出了顶级的镜面抛光技术后，想出来的坏事情，真是太不要脸了！”
　　
　　定光研究所，林晓的办公室中，罗明愤愤不平地说道。
　　
　　但林晓却只是静静地坐在自己的办公桌前，思考着问题。
　　
　　而罗明还气不过，继续说道：“他们还抓了一个卧底，声称是我们的人，然后还宣传他在监狱里面上吊自杀？明显就是再给我们示威呢！监狱里面能刚好有个绳子让人上吊吗？”
　　
　　“呸，恶心！”
　　
　　而听到罗明这么说，林晓却是眉头一皱：“卧底？上吊自杀？”
　　
　　“是啊，国外的消息，都传回来了，简直是太可恶了！”
　　
　　罗明无比气愤地说道。
　　
　　但是林晓却倏然站了起来。
　　
　　卧底？
　　
　　然后恰好在这个时间节点被发现？
　　
　　他的记忆力很好，同时联想能力也很强，他立马想到了当初沃尔夫奖的事情。
　　
　　不就是有国安的人告诉了他，收到了情报，让他不要去领奖了吗？
　　
　　当时他也想过那些情报是从哪来的，但是并没有思考太多，现在想一想，是否就是因为有这样的卧底为他们传来的消息？
　　
　　他呼吸不由急促了起来，如果那个卧底真的是他们的人，也真的是因为他而被发现。
　　
　　那他……
　　
　　旁边罗明见到林晓之前听到被制裁后还不慌不忙的，结果一提到那个被抓的卧底事情，就变成了这副样子，不由疑惑道：“林教授，怎么了？”
　　
　　林晓摆了摆手，沉沉地说道：“我需要打个电话，麻烦你了。”
　　
　　
　　
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